Buenos Aires,
Francisco Vicario
Crédito foto: CONICET
Argentina fortaleció su infraestructura científica con el traslado de equipamiento avanzado desde Estados Unidos hacia San Luis. La iniciativa apunta a ampliar la capacidad de investigación en química de superficies y aplicaciones industriales.
Equipos del Laboratorio de Fisicoquímica de Superficies del profesor Wilfred T. Tysoe serán instalados en el Instituto de Física Aplicada. Este proceso resulta de una colaboración entre el CONICET y la Universidad Nacional de San Luis, orientada a consolidar capacidades tecnológicas en la región.
Investigadores involucrados destacan el impacto del nuevo equipamiento en el desarrollo científico local. Octavio Furlong, del CONICET, señaló: "La incorporación de estos equipos, algunos de los cuales son de última generación, a nuestra institución significa disponer de uno de los laboratorios de superficies más importantes de la región".
Según el especialista, el laboratorio permitirá realizar estudios con sistemas de ultra alto vacío. Estas tecnologías reducen la presión dentro de cámaras experimentales, lo cual facilita mediciones sin interferencia del aire y mejora la precisión en análisis de materiales.
Este avance permitirá estudiar propiedades químicas y físicas en las capas superficiales de materiales. Dichas investigaciones resultan clave para comprender interacciones entre sólidos y su entorno, con aplicaciones en procesos industriales y científicos.
Además, el equipamiento podría contribuir a reducir pérdidas de energía por fricción en maquinaria. También facilitaría el desarrollo de soluciones contra la corrosión y mejoras en la biocompatibilidad de implantes médicos, según explicó el investigador.
Así, la transferencia del laboratorio se vincula con la trayectoria de colaboración entre Tysoe y el INFAP. El académico, cercano a su retiro, decidió trasladar su laboratorio a San Luis tras más de tres décadas de relación con la institución, lo cual ampliará las capacidades experimentales del país en química de superficies.